Was ist ein Niobwürfel im getemperten -Zustand?

Was den Niobwürfel im getemperten-Zustand betrifft, so behält der Niobwürfel nach der Kaltbearbeitung und dem Schneiden eine große Menge an Schnittspannung, Gitterversetzungen, Wasserstoff-Sauerstoffadsorptionsverunreinigungen usw.;
Um dieses Problem zu lösen und diese Probleme zu beseitigen, wird der Niobwürfel einer Behandlung im geglühten -Zustand unterzogen. Der Niobwürfel im getemperten-Zustand bezieht sich auf den fertigen Würfel in einer Hochvakuum-/hoch{3}}Wasserstoffatmosphäre, der einer 800–1250 Grad hohen-Temperatur haltenden Wärmebehandlung und einer langsamen temperatur-kontrollierten Abkühlung unterzogen wird, wodurch die vier Prozesse Spannungsabbau, Rekristallisation, Vakuumentgasung sowie Oberflächenreduktion und Oxidentfernung abgeschlossen werden und dann zu einem verdampften Material im weichen{8}}Zustand wird. Es ist die bestimmte Sorte für OLED, Optik und hochwertige Halbleiter-Aufdampfbeschichtungen und unterscheidet sich vom nicht-geglühten, kalt-gehärteten Niobwürfel.
Standard-Glühverfahren (geglühte Würfel in Vakuumbeschichtungsqualität)
1. Atmosphäre: Vakuumglühen (besser als 1×10⁻³ Pa) oder Blankglühen mit hochreinem Wasserstoff; Von der Luft isolieren, um Sauerstoffaufnahme und Oxidation bei hohen Temperaturen zu verhindern
2. Temperaturbereich
◦ Spannungsarmglühen: 800–900 Grad, Beseitigung von Schnittspannungen, Entfernung von an der Oberfläche adsorbiertem Wasserstoff und Wasserdampf
◦ Vollständiges Rekristallisationsglühen: 1050–1300 Grad, Korngröße verfeinern, Gitterverunreinigungen vollständig entfernen
3. Prozess: Halten bei hoher-Temperatur → Gefälletemperaturgesteuertes langsames Abkühlen → Abkühlen auf Raumtemperatur im Ofen → Entfetten und Reinigen → Vakuumversiegelnde Verpackung
Vorteile des geglühten kubischen Niobkerns (Adressierung der Schwachstellen der Vakuumbeschichtung)
1. Interne Gase vollständig entfernen, mit extrem geringem Gasentladungsvolumen im Hohlraum, wodurch eine hohe Vakuumstabilität gewährleistet wird. Während der Kaltverarbeitung von Niob hält das innere Gitter H₂, N₂ und Spuren von Wasserdampf zurück. Während des Hochtemperaturbeschusses mit Elektronenstrahlen kommt es zu einer kontinuierlichen Gasentladung, die zu Schwankungen im Hohlraumvakuumniveau und dem Auftreten von Nadellöchern, Trübungen und Farbunterschieden auf dem Film führt.
Die Tiefentgasung wird durch Hochtemperaturglühen abgeschlossen: Eine große Menge an Wasserstoff, adsorbiertem Wasser und interstitiellen Verunreinigungsgasen wird freigesetzt, wodurch die Spitzenausgasung des Vakuumverdampfungsprozesses erheblich reduziert, ein stabiles Hohlraumvakuum aufrechterhalten und die Ausbeute an mehrschichtigen optischen Filmen und Halbleiterbarriereschichten erheblich verbessert wird.
2. Beseitigen Sie Restspannungen beim Schneiden, keine Risse oder Spritzer während der Hochtemperaturverdampfung. Ungeglühtes kalt-gehärtetes Niob weist eine konzentrierte innere Spannung auf. Während der lokalen Hochtemperaturerwärmung durch einen Elektronenstrahl werden Spannungen freigesetzt, die zu Partikelrissen und verspritzenden Trümmern führen, den Tiegel und das Substrat verunreinigen, zu plötzlichen Änderungen der Filmdicke führen und den Verlust von Zielmaterial beschleunigen. Nach dem Glühen rekonfiguriert sich das Gitter und die Spannung wird vollständig abgebaut, wodurch das Material weicher und duktiler wird; Unter Langzeitbeschuss mit Hochtemperatur-Elektronenstrahlen wird das gesamte Material gleichmäßig erhitzt, ohne Risse oder Fragmentierung, und die Verdampfungsrate ist linear stabil, mit konsistenter Wiederholbarkeit und gleichbleibender Filmdicke, geeignet für kontinuierliche Plattenproduktionslinien.
3. Entfernen Sie die oberflächliche Oxidschicht und reduzieren Sie so die Sauerstoffverunreinigungen im Film. Niob bildet bei Raumtemperatur leicht eine Spurenschicht aus Nb₂O₅-Oxid. Die Verdampfung des ungeglühten Rohmaterials führt zur gleichzeitigen Verdampfung von Oxiden, was zu einem übermäßigen Sauerstoffgehalt im metallischen Niobfilm und einer Abnahme der Leitfähigkeit führt; Bei der Herstellung optischer Nb₂O₅-Filme kommt es zu einer Brechungsindexschwankung und einer spektralen Verschiebung. Wasserstoffglühen kann die Oberflächenoxidschicht wiederherstellen, Vakuumglühen sorgt dafür, dass der Oberflächensauerstoff gleichmäßig in das Substrat diffundiert, was zu einer sauberen Oberfläche ohne freie Oxidschicht, einem kontrollierbaren Verunreinigungsgehalt im verdampften Film, einer hohen Chargenkonsistenz der optischen Parameter und Leitfähigkeitsparameter sowie der Eignung für hochpräzise optische Beschichtungen und Halbleiterfilmabscheidung führt.
4. Gleichmäßige Kornverfeinerung, gleichmäßige Wärmeleitung, stabile und kontrollierbare Verdampfungsrate. Die Körner des kaltverarbeiteten Niobs sind verzerrt und ungleichmäßig groß, mit erheblichen Unterschieden in der lokalen Wärmeleitung. Beim Elektronenstrahlbeschuss kommt es zu lokalem Überschmelzen oder unzureichender Verdampfung; Nach dem Glühen ist die Rekristallisation abgeschlossen, wodurch eine gleichachsige feinkörnige Struktur mit ausgewogener Wärmeleitfähigkeit in kubischen Partikeln entsteht und die gesamte Materialcharge im Tiegel gleichzeitig verdampft, wodurch die Notwendigkeit einer häufigen Anpassung der Elektronenstrahlleistung entfällt, die Prozessfehlerbeseitigungskosten gesenkt werden und sie für hochpräzise optische Beschichtungen und die Abscheidung von Halbleiterfilmen geeignet ist.
5. Beständig gegen Kriechen bei hohen-Temperaturen, neigt nicht zum Kollaps oder zur Verformung während der Langzeitverdampfung. Geglühtes Niob hat eine verbesserte Plastizität und eine stärkere strukturelle Stabilität bei hohen Temperaturen. Der Tiegel wird nicht weich und kollabiert oder bildet keine Klumpen, wenn er über einen längeren Zeitraum bei hohen Temperaturen verweilt, und die Fülldichte bleibt unverändert, wodurch die Häufigkeit von Maschinenstillständen zum Nachfüllen von Material verringert und die Auslastung der Produktionslinie verbessert wird. Im Vergleich zu hartem Niob erhöht sich die Dauerverdampfungsdauer um mehr als 30 %.
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