Beschreibung

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Chromium Tube Target ist ein Metalltarget, das häufig zum Magnetronsputtern, zur Ionenplattierung und zur PVD-Vakuumfilmierung verwendet wird und hauptsächlich für die Verarbeitung funktionaler Funktionen in den Bereichen Photologie, Elektronik, Dekoration und Korrosionsbeständigkeit usw. verwendet wird. Im Folgenden finden Sie eine grundlegende Einführung zu seinen grundlegenden Eigenschaften.

Grundlegende Informationen

Chemisches Element:Chrom(Cr)

Form:röhrenförmig (Rohr-/Zylinderform, mit Magnetinnenseite für Magnetronsputtern)

Reinheit:Größer oder gleich 99,5 %, 99,7 %, 99,8 %, die maximale Reinheit könnte 99,95 % betragen

Typische Dimension:Außendurchmesser: 60 mm-150 mm, Länge: 500 mm-3000 mm (kundenspezifisch)

Technikprozess:Vakuumschmelzen → HIP/CIP (Heißisostatischer Druck/Kaltisostatischer Druck) → Heißes Plasmaspritzen oder Einschweißen in die Rohrzielstruktur.

Physikalische und chemische Eigenschaften

Dichte:7,19 g/cm³, hohe Metalldichte.

Schmelzpunkt:1907 Grad, hoher Schmelzpunkt, geeignet für Hochtemperatursituationen.

Wärmeausdehnung:6,2×10⁻⁶/K, stabile Wärme-Fähigkeit.

Elektrischer Widerstand:12,9 μΩ·cm, ausgezeichnete elektronische Leitfähigkeit.

Steifigkeit:HV ≈ 800-1000, robuste und tragfähige Oberfläche

Oxidationsbeständigkeit:Hervorragende Bildung eines kompakten Cr2O3-Films

Korrosion-Beständigkeit:Hervorragende, gute Toleranz gegenüber Säuren, Laugen und Oxidationsmitteln

Filmeigentum

Filmfarbe:Silbergrau oder Metallhellgrau.

Filmeigentum:Gute Haftung und Steifigkeit

Hoher Reflexionsgrad und elektronische Leitfähigkeit